產(chǎn)品詳情
半導(dǎo)體良率卡在95%？納米級(jí)真空污染控制真空泵
在半導(dǎo)體制造邁向3nm、2nm先進(jìn)制程的今天，晶圓良率仍是決定企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力的核心指標(biāo)。然而，真空系統(tǒng)的微量油霧反流、微粒殘留、腐蝕氣體侵蝕等問題，導(dǎo)致工藝腔體污染、薄膜沉積不均、線路缺陷頻發(fā)，成為良率卡在95%的關(guān)鍵瓶頸。普旭（Busch）油式真空泵憑借**納米級(jí)潔凈控制技術(shù)與半導(dǎo)體級(jí)穩(wěn)定性設(shè)計(jì)，為全球頭部芯片廠商提供從光刻到封裝的全程真空保障，助力良率突破99%大關(guān)！ 普旭油式真空泵：半導(dǎo)體制造的“真空污染終結(jié)者”
1. 納米級(jí)潔凈度保障
- 零油霧反流技術(shù)：采用多層油霧分離系統(tǒng)（過(guò)濾效率＞99.999%），徹底消除潤(rùn)滑油分子進(jìn)入工藝腔體的風(fēng)險(xiǎn)，確保晶圓表面零污染。
- ISO 8573-1 Class 0認(rèn)證**：通過(guò)國(guó)際權(quán)威無(wú)油認(rèn)證，滿足EUV光刻、離子注入等超敏感環(huán)節(jié)的潔凈需求，從源頭杜絕微粒缺陷。
2. 超強(qiáng)耐腐蝕性能
- 特種合金+陶瓷涂層：泵體關(guān)鍵部件采用耐腐蝕合金與陶瓷復(fù)合涂層，可長(zhǎng)期耐受Cl?、CF?、HBr等強(qiáng)腐蝕性氣體，設(shè)備壽命提升3倍以上。
- 智能氣體沖洗系統(tǒng)：自動(dòng)清除蝕刻副產(chǎn)物殘留，避免泵內(nèi)結(jié)垢，減少30%維護(hù)停機(jī)時(shí)間。
3. 穩(wěn)定性控制
- 動(dòng)態(tài)真空平衡技術(shù)：真空度波動(dòng)范圍控制在±0.1%以內(nèi)，保障ALD（原子層沉積）、PVD（物理氣相沉積）工藝的納米級(jí)均勻性。
- 高溫持久運(yùn)行：在150℃高溫環(huán)境下連續(xù)運(yùn)行超10,000小時(shí)無(wú)衰減，適配7×24小時(shí)量產(chǎn)節(jié)奏。
普旭油式真空泵的半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用場(chǎng)景
? 光刻工藝：為EUV光刻機(jī)提供無(wú)油真空環(huán)境，避免鏡頭污染導(dǎo)致的曝光精度下降。
? 薄膜沉積：在ALD/PVD設(shè)備中維持超高真空穩(wěn)定性，確保3D NAND堆疊層厚度誤差＜0.1nm。
? 蝕刻與清洗：抗腐蝕設(shè)計(jì)匹配干法蝕刻機(jī)，精準(zhǔn)控制刻蝕速率與側(cè)壁陡直度。
? 先進(jìn)封裝：在TSV硅通孔、RDL重布線層工藝中實(shí)現(xiàn)微米級(jí)真空吸附定位，提升異構(gòu)集成良率。
性能優(yōu)勢(shì)：為何全球TOP10晶圓廠選擇普旭？
?? 能效革命：自適應(yīng)變頻技術(shù)降低30%能耗，單臺(tái)年省電費(fèi)超5萬(wàn)美元。
?? 智能物聯(lián)：搭載IoT傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)油溫、振動(dòng)、真空度，預(yù)警準(zhǔn)確率達(dá)98%，實(shí)現(xiàn)預(yù)測(cè)性維護(hù)。
??模塊化設(shè)計(jì)：支持與真空閥門、尾氣處理裝置無(wú)縫集成，快速適配8/12英寸產(chǎn)線（推薦型號(hào)：COBRA NX系列）。
?? 成本優(yōu)化：維護(hù)周期延長(zhǎng)至8,000小時(shí)，綜合運(yùn)維成本降低40%。
客戶見證：
- 臺(tái)積電5nm產(chǎn)線：采用普旭COBRA NX系列后，因真空污染導(dǎo)致的晶圓報(bào)廢率下降0.8%，年增效益超1.2億美元。
- 三星3D NAND工廠：在堆疊工藝中實(shí)現(xiàn)真空系統(tǒng)零故障運(yùn)行，產(chǎn)能爬坡速度提升25%。
- 中芯國(guó)際28nm項(xiàng)目：國(guó)產(chǎn)替代方案通過(guò)SEMI標(biāo)準(zhǔn)驗(yàn)證，設(shè)備綜合效率（OEE）提升18%。
