產(chǎn)品詳情
該系列設(shè)備主要是使用直流(或中頻)磁控濺射,可適應(yīng)廣泛鍍膜靶材,如:銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料,可以利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜,可提高膜層的附著力、重復(fù)性、致密度、均勻度等特點(diǎn)。
主機(jī)控制采用可編程序控制器(plc)+觸摸屏(hmi)組合電氣控制系統(tǒng)。全自動(dòng)控制,配置先進(jìn)大功率磁控電源,恒流輸出,克服靶中毒。
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磁控濺射全自動(dòng)鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù)說(shuō)明:
| 設(shè)備型號(hào) | sj-1200 | sj1400 | sj-1600 | sj-1800 |
| 真空室尺寸 | 1200×1500 | 1400×1950 | 1600×2000 | 1800×2000 |
| 制膜種類(lèi) | 多功能金屬膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、增返射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜等 | |||
| 電源類(lèi)型 | 直流磁控電源、中頻磁控電源電源、高壓離子轟擊電源 | |||
| 圓柱靶 | 直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶 | |||
| 真空室結(jié)構(gòu) | 立式雙開(kāi)門(mén)、立式單開(kāi)門(mén) | |||
| 真空系統(tǒng) | 滑閥泵+羅茨泵+擴(kuò)散泵+維持泵 | |||
| 充氣系統(tǒng) | 質(zhì)量流量控制儀(1-4路) | |||
| 極限真空 | 6×10-4pa(空載、凈室) | |||
| 抽氣時(shí)間 | 空載大氣抽至5×10-3pa小于15分鐘 | |||
| 工件旋轉(zhuǎn)方式 | 6軸/8軸/9軸公自轉(zhuǎn)/變頻無(wú)級(jí)調(diào)速 | |||
| 控制方式 | 手動(dòng)+半自動(dòng)+全自動(dòng)一體化/觸摸屏+plc | |||
| 備注 | 真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做 | |||







