產(chǎn)品詳情
蘇州氫氧化鎂阻燃劑超高速分散機,氫氧化鎂阻燃劑分散機,氫氧化鎂分散機,氫氧化鎂阻燃劑高速分散機,進口氫氧化鎂阻燃劑分散設(shè)備,蘇州分散機廠家,分散機,研磨分散設(shè)備
隨著高分子材料工業(yè)的發(fā)展，塑料、橡膠、纖維等合成高分子材料越來越廣泛的用于建筑、化工、JUN事及交通等領(lǐng)域。但大部分高分子材料均易于燃燒，在很多應(yīng)用領(lǐng)域中，需要添加阻燃劑以降低其燃燒性及燃燒速度，從而達到預(yù)防火災(zāi)、減緩火勢蔓延的密度。近年來，高分子阻燃技術(shù)受到全球性的關(guān)注阻燃劑以及成為僅此于增塑劑的第二大高分子材料用助劑。
作為重要的無極阻燃劑產(chǎn)品，氫氧化鋁和氫氧化鎂由于環(huán)境友好、阻燃性強而倍受人們青睞。與氫氧化鋁相比，氫氧化鎂具有熱穩(wěn)定性高、成炭效率高和降酸能力強等特點?？梢詮V泛的應(yīng)用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不飽和樹脂等高分子材料的阻燃和消煙。
（1——5——2——6——2——5——7——2——7——0——7）
然而，要獲得超細的氫氧化鎂助燃劑混懸液就必須使用高品質(zhì)的分散設(shè)備，傳統(tǒng)的分散設(shè)備，一方面無法將氫氧化鎂漿料進一步細化，另一方分散效果不佳。蘇州ZKE結(jié)合多家阻燃劑廠家，可知，采用ZKEKZSD2000系列研磨分散機對氫氧化鎂漿料進行進一步的研磨和分散，粒徑更小，分散更均勻。
氫氧化鎂阻燃劑分散機是將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備，先研磨后分散機，因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當中，會形成二級團聚體，軟團聚。需要先將團聚體打開再進行分散。ZKE研磨分散機二級工作組，轉(zhuǎn)速高達18000rpm，剪切力強，分散更徹底。
KZSD2000系列研磨分散設(shè)備是ZKE（蘇州）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
KZSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
D一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
（1——5——2——6——2——5——7——2——7——0——7）
KZSD2000 三級乳化機參數(shù)表
ZKE高剪切乳化機選型表：
|
|
標準流量（H2O） |
輸出轉(zhuǎn)速 |
標準線速度 |
馬達功率 |
進出口尺寸 |
|
型號 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
|
KZSD 2000/4 |
400 |
18000 |
51 |
4 |
DN25/DN15 |
|
KZSD 2000/5 |
1500 |
13500 |
51 |
7.5 |
DN40 /DN 32 |
|
KZSD 2000/10 |
4000 |
9257 |
51 |
22 |
DN50 / DN50 |
|
KZSD 2000/20 |
10000 |
3664 |
51 |
37 |
DN80 /DN 65 |
|
KZSD 2000/30 |
60000 |
1825 |
51 |
55 |
DN150 /DN 125 |
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