產(chǎn)品詳情
產(chǎn)品簡介
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 微流控芯片系統(tǒng) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,電子 |
詳細介紹
產(chǎn)品名稱:DS-2000/14G型光刻機主要技術(shù)指標(biāo):單次曝光面積:1.4mm×1mm 大曝光基片:100mm ×100mm 對準(zhǔn)精度:±0.8μm(半自動對準(zhǔn)) 大膠厚:300μm(SU8膠) 自動逐場對焦; 分辨力:1μm; X、Y、Z、θ四自由度電動位移臺 X、Y平移重復(fù)定位精度:0.65μm(3σ) Z向運動精度:1μm DS-2000/14G型光刻機技術(shù)特點:該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源,用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板,采用積木 錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明,并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準(zhǔn)系統(tǒng)(可同時使用),拼接獲得大面積圖形,曝光設(shè)定采用微機控制,菜單界面友好,操作簡便。


