產(chǎn)品型號(hào)

   1700℃立式淬火爐GSL-1700X-80VTQ

本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：不需要

2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地

3、氣：如作為CVD系統(tǒng)使用，需自備氣源（標(biāo)準(zhǔn)帶有寶塔接頭，可自費(fèi)改制成為雙卡套接頭）

4、工作臺(tái)：尺寸1200mm×600mm×700mm，承重300kg以上

5、通風(fēng)裝置：需要

主要特點(diǎn)

   1、雙層不銹鋼殼體，并采用1800℃級(jí)高純度氧化鋁纖維絕熱。

   2、爐管配有絕熱管堵，減少管內(nèi)向外熱輻射。

   3、爐管頂部配裝帶有不銹鋼針閥的密封法蘭，底部配有閘板閥、真空計(jì)、KF25真空接口。

   4、頂部法蘭配有電磁鐵，可懸掛質(zhì)量約500g的樣品，當(dāng)按下溫控單元上的電磁吸盤(pán)按鈕時(shí)，樣品就會(huì)墜入淬冷水箱

　　 內(nèi)。

   5、采用下置淬冷水箱，便于立即淬火。

   6、采用與爐體分離式的獨(dú)立溫控單元，PID控制器，可設(shè)置30段升降溫程序，并內(nèi)置超溫報(bào)警保護(hù)裝置，以及RS48

         5通信端口。

   7、已通過(guò)CE認(rèn)證，所用電器元件（>24V）已通過(guò)UL、MET、CSA認(rèn)證。

技術(shù)參數(shù)

   1、電源：?jiǎn)蜗?/span>AC 220V   50Hz/60Hz  4KW

   2、爐管：99.8%高純度氧化鋁管，內(nèi)徑Ø74mm，外徑Ø80mm，長(zhǎng)850mm

   3、加熱元件：4根1800℃級(jí)U型硅鉬棒

   4、加熱區(qū)域：200mm

   5、工作溫度：極限溫度1700℃（<1h），連續(xù)工作800℃-1650℃

   6、大升降溫速率：1200℃以上時(shí)為5℃/min，1200℃以下時(shí)為10℃/min

   7、控溫精度：±1℃

   8、真空度：機(jī)械泵50mtorr，渦輪分子泵10^-5torr

產(chǎn)品規(guī)格

　尺寸：1080mm×650mm×1500mm；重量：190kg

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

　氧化鋁管

1根

2

　氧化鋁管堵

4個(gè)

3

　不銹鋼法蘭

1套

4

　熱電偶

1個(gè)

可選配件

   1、PC控制軟件

   2、不銹鋼卡套接頭

   3、分子泵

注意事項(xiàng)

   1、在釋放樣品前，必須先向爐管內(nèi)充入5psi氬氣，再打開(kāi)閘板閥。

   2、硅鉬棒是在高溫氧化性氣氛下使用的。在高溫氧化氣氛中，其表面生成一層光亮致密的SiO₂玻璃膜，能夠保護(hù)硅

　　 鉬棒內(nèi)層不再氧化。因此，不得在400℃-700℃之間使用，否則將會(huì)低溫氧化致使毀壞。

   3、氣氛氣體輸入端必須裝配減壓閥。在連續(xù)通氣時(shí)，輸出壓設(shè)置在3psi以下。若壓力水平超過(guò)3psi將會(huì)對(duì)爐膛造成

　　 不可逆的損害。

   4、如若爐內(nèi)是正壓條件，且未開(kāi)啟放氣閥時(shí)，切勿進(jìn)行加熱。在加熱過(guò)程中要實(shí)時(shí)觀測(cè)真空計(jì)，一旦爐內(nèi)壓力接近

         3psi，請(qǐng)立即打開(kāi)放氣閥，避免不可預(yù)見(jiàn)的損壞。

   5、氣體的流量應(yīng)限于<200SCCM（200ml/min）。

   6、氧化鋁管的真空極限定義為：在管內(nèi)溫度達(dá)到1500℃時(shí)為止，皆視為安全真空壓力范圍。