產(chǎn)品詳情
BSEU25-20,BSEU25-25,BSEU40-20單向離合器
BSEU25-20，BSEU25-25止逆凸輪離合器
BSEU40-30，BSEU40-35止逆凸輪離合器
BSEU70-45，BSEU70-50止逆凸輪離合器
BSEU70-70，BSEU90-80止逆凸輪離合器
BSEU40-20，BSEU40-25止逆凸輪離合器
BSEU90-85，BSEU90-90止逆凸輪離合器
BSEU70-55，BSEU70-60止逆凸輪離合器
BSEU70-65止逆凸輪離合器
HY40B-LP,HY40B-RP,HY40S-LP,變量泵,溫納wena變量泵,柱塞泵廠家,價格
HY40S-RP,HY40P-LP,HY40P-RP,變量泵,溫納wena變量泵,柱塞泵廠家,價格
HY45M-LP,HY45M-RP,HY45Y-LP,變量泵,溫納wena變量泵,柱塞泵廠家,價格
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可以通過應(yīng)用粘接助劑（底漆）的方式來改善涂層同工件表層的結(jié)合能力。（濕法）分散體涂層噴涂噴涂涂層材料須均勻一致。涂層厚度取決于采用的涂層體系；涂層厚度的變化可能從幾個微米到2微米（.2毫米）不等。干燥在烘爐中將濕的涂層加熱，溫度控制在1C以下，直至大部分的溶劑已蒸發(fā)。燒結(jié)燒結(jié)這一步驟，乃是將工件加熱至一個較高的溫度，直至一個不可逆的反應(yīng)發(fā)生：涂層材料熔融，同粘接助劑形成網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。粉體涂層概述粉體涂層加工的方法是一種干式加工，在此所使用的涂層材料為極其細小的固體顆粒形態(tài)。
BSEU25-20
BSEU25-25
BSEU40-20
BSEU40-25
BSEU40-30
BSEU40-35
BSEU40-40
BSEU70-45
BSEU70-50
BSEU70-55
BSEU70-60
BSEU70-65
BSEU70-70
BSEU90-75
BSEU90-80
BSEU90-85
BSEU90-90
CK-A1542 15*42*24
CK-A1747 17*47*24
CK-A2052 20*52*24
CK-A2562 25*62*24
CK-A3072 30*72*24
CK-A3580 35*80*30
CK-A4090 40*90*30
CK-A45100 45*100*30
CK-A50110 50*110*30
CK-A60130 60*130*36
CK-A65140 65*140*36
CK-A70150 70*150*42
CK-A2060 20*60*24
CK-A2563 25*63*26
CK-A2563T 25*63*32
CK-A2870 28*70-32
CK-A308T 30*80*32
CK-A3585 35*85*32
CK-A35100 35*100*34
CK-A40100 40*100*34
CK-A40110 40*10*34
CK-A50125 50*125*36
NXQ1-L25/20-H,NXQ1-L1.6/20-H囊式蓄能器，蓄能器膠囊，蓄能器皮囊，無錫溫納廠家
NXQ1-L2.5/20-H,NXQ1-L10/20-H囊式蓄能器，蓄能器膠囊，蓄能器皮囊，無錫溫納廠家
NXQ1-L40/20-H,NXQ1-L63/20-H囊式蓄能器，蓄能器膠囊，蓄能器皮囊，無錫溫納廠家
NXQ1-L80/20-H,NXQ1-L100/20-H囊式蓄能器，蓄能器膠囊，蓄能器皮囊，無錫溫納廠家
NXQ1-L125/20-H,NXQ1-L0.25/31.5-H囊式蓄能器，蓄能器膠囊，蓄能器皮囊，無錫溫納廠家
NXQ1-L0.4/31.5-H,NXQ1-L0.63/31.5-H囊式蓄能器，蓄能器膠囊，蓄能器皮囊，無錫溫納廠家
NXQ1-L1/31.5-H,NXQ1-L1.25/31.5-H囊式蓄能器，蓄能器膠囊，蓄能器皮囊，無錫溫納廠家
NXQ1-L4/31.5-H,NXQ1-L6.3/31.5-H囊式蓄能器，蓄能器膠囊，蓄能器皮囊，無錫溫納廠家
NXQ1-L16/31.5-H,NXQ1-L20/31.5-H囊式蓄能器，蓄能器膠囊，蓄能器皮囊，無錫溫納廠家
壓濾機周圍應(yīng)留有足夠空間，以便于操作和維護保養(yǎng)。壓濾機應(yīng)水平放置在地坪上，后頂板用底腳螺拴固定在基礎(chǔ)上。(注：底腳螺拴一般只固定后頂板，因拉干由于板框的壓力產(chǎn)生一定的向下彎曲，當壓濾機壓緊工作時，拉干被拉直，從而產(chǎn)生小量位移，如果兩端同時固定，有可能導致壓不緊或者損壞機架。濾布的材質(zhì)、規(guī)格按照過濾的物料、壓力、溫度而定，應(yīng)選擇適宜的濾布。板框按照要求整齊地排放在機架上，將加工好的濾布整齊地排在濾板上，注意濾板間進料孔和漂洗孔相對應(yīng)。
