產(chǎn)品詳情
北京冠金利新材料科技有限公司為您長期供應(yīng)高純鐵靶，高純鐵靶材，鐵靶以及鐵靶的相關(guān)產(chǎn)品，產(chǎn)品規(guī)格如下：鐵鈷鎳靶材磁控鐵靶材磁性鎳靶材光盤用鈷靶材
1、 高純鐵靶材的純度為，99.9%，99.95%,99.99%,99.999%,高純鐵靶的分析單會在發(fā)貨同時發(fā)出。
2、 高純平面鐵靶材的常用規(guī)格：Ø100*4，Ø168*3.5，400*100*6-13，等。
3、 高純磁控濺射鐵靶材常用規(guī)格：Ø76.2*5等。
4、 高純蒸發(fā)鍍用鐵絲：直徑Ø0.3-5。鐵鈷鎳靶材磁控鐵靶材磁性鎳靶材光盤用鈷靶材
5、 蒸發(fā)鍍用高純鐵粒：10*10，6*6，3*3，2*10等規(guī)格。
6、 高純鐵靶材的生產(chǎn)工藝為真空熔煉，粉末冶金，等靜壓等。
7、 高純鐵靶材的規(guī)格可根據(jù)客戶要求定做，也可以根據(jù)各種圖紙加工。
北京冠金利新材料科技有限公司為您長期供應(yīng)高純鈷靶，高純鈷靶材，鈷靶以及鈷靶的相關(guān)產(chǎn)品，產(chǎn)品規(guī)格如下：
8、 高純鈷靶材的純度為，99.9%，99.95% 99.99%高純鈷靶的分析單會在發(fā)貨同時發(fā)出。
9、 高純平面鈷靶材的常用規(guī)格：Ø100*4，Ø168*3.5，400*100*6-13，等。
高純磁控濺射鈷靶材常用規(guī)格：Ø100*80，等。高純蒸發(fā)鍍用鈷絲：直徑Ø0.3-5。
10、 蒸發(fā)鍍用高純鈷粒：10*10，6*6，3*3，2*10等規(guī)格。
11、 高純鈷靶材的生產(chǎn)工藝為真空熔煉，粉末冶金，等靜壓等。
12、 高純鈷靶材的規(guī)格可根據(jù)客戶要求定做，也可以根據(jù)各種圖紙加工。
本公司長期供應(yīng)鎳靶，高純鎳靶材，鎳靶材，高純鎳粒，高純鎳柱，高純鎳板，鎳錠，鎳絲，鎳型材，純度3N-6N，平面靶材，磁控濺射旋轉(zhuǎn)靶材。本公司擁有國內(nèi)外先進(jìn)的技術(shù)設(shè)備，和高端的技術(shù)人員，通過真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等技術(shù)，專業(yè)研發(fā)制造高純度靶材，我們的靶材純度高，致密度高，放氣量小，晶粒細(xì)，成膜質(zhì)量好，價格優(yōu)惠，歡迎新老客戶來電咨詢！
北京冠金利新材料科技有限公司為您長期供應(yīng)高純鎳靶，高純鎳靶材，鎳靶以及鎳靶的相關(guān)產(chǎn)品，產(chǎn)品規(guī)格如下：鐵鈷鎳靶材磁控鐵靶材磁性鎳靶材光盤用鈷靶材
13、 高純鎳靶材的純度為，99.9%，99.99%,99.999%,高純鎳靶的分析單會在發(fā)貨同時發(fā)出。
14、 高純平面鎳靶材的常用規(guī)格：Ø100*4，Ø168*3.5，400*100*6-13，等。
15、 高純磁控濺射鎳靶材常用規(guī)格：Ø100*80，等。
16、 高純蒸發(fā)鍍用鎳絲：直徑Ø0.3-5。
17、 蒸發(fā)鍍用高純鎳粒：10*10，6*6，3*3，2*10等規(guī)格。
18、 高純鎳靶材的生產(chǎn)工藝為真空熔煉，粉末冶金，等靜壓等。
高純鎳靶材的規(guī)格可根據(jù)客戶要求定做，也可以根據(jù)各種圖紙加工。
一、 高純金屬（包括稀土）濺射靶材
高純鋁靶材Al 高純銅靶材Cu 高純鐵靶材Fe 高純鈦靶材Ti 高純鎳靶材Ni
高純鎂靶材Mg高純鉻靶材Cr 高純鋅靶材Zn 高純銀靶材Ag 高純鈷靶材Co
高純鈮靶材Nb 高純錫靶材Sn 高純銦靶材In 高純鋯靶材Zr 高純鉭靶材Ta
高純鍺靶材Ge 高純硅靶材Si 高純鎢靶材W 高純鉿靶材Hf 高純釔靶材Y
高純釓靶材Gd 高純釤靶材Sm 高純鏑靶材Dy 高純鈰靶材Ce 高純鑭靶材La
高純金靶材Au 高純不銹鋼靶材 高純石墨靶材C 高純硒靶材Se高純鉬靶材Mo
高純鉑靶材Pt 高純鉛靶材Pb 高純鐠靶材Pr 高純鋱靶材Tb 高純鈥靶材Ho
高純鐿靶材Yb 高純銩靶材Tm 高純镥靶材Lu 高純鉺靶材Er 高純鈧靶材Sc
