產(chǎn)品詳情
金相樣品制備和分析中的技巧及方法
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摘 要：介紹了一般金相樣品制備過(guò)程中樣品高度對(duì)制樣過(guò)程的影響，以及特殊的鑲嵌技巧；同時(shí)涉及了鑭鎳儲(chǔ)氫材料樣品制備的方法、技巧及效果，以及微差干涉技術(shù)在無(wú)鉛釬料研究中的實(shí)際應(yīng)用 。
關(guān)鍵詞： 樣品高度；鑲嵌；儲(chǔ)氫材料；微差干涉技術(shù)( D I C)
金相樣 品的制備在相當(dāng)程度上是一個(gè)經(jīng)驗(yàn)、技巧的過(guò)程；同時(shí)，由于新材料、新技術(shù)的應(yīng)用，對(duì)于金相檢驗(yàn)方法也提出了進(jìn)一步的要求。筆者在實(shí)際工作中對(duì)一些制樣的細(xì)節(jié)，以及在新材料、新技術(shù)的檢驗(yàn)和應(yīng)用上獲得了一些經(jīng)驗(yàn)和體會(huì)。
1 樣品高度的控制
試樣的幾何尺寸實(shí)際上制約著樣品在手工機(jī)械磨光和拋光過(guò)程中的平衡控制。如果在進(jìn)行磨光前的取樣和鑲嵌階段多留意一下樣品最終磨制時(shí)的高度以及高度與磨面最小徑向尺寸的關(guān)系，會(huì)有效地提高工作的效率和效果。
受預(yù)磨機(jī)磨光盤(pán)直徑的限制，金相樣品的磨面通常介于 1 5 0 ~4 0 0 mm 2 之間( <1 5 0 mm 2的試樣先鑲嵌，再磨制) 。一般情況下，磨面越大，試樣高度越低，穩(wěn)度越大，越有利于對(duì)試樣的平穩(wěn)控制。因此，對(duì)于不需要鑲嵌的樣品，在截取樣 品時(shí)注意磨面的最小徑向尺寸與樣品截取后高度之間的比例關(guān)系 ，盡可能的情況下降低高度。為方便握持，通常取試樣高度在 10 ~2 0 mm范圍內(nèi)。
需要鑲嵌的試樣,最終的試樣直徑規(guī)格為2 2 m m和 2 5 m m的，其高度應(yīng)控制在 12 ～1 5 mm直徑為 3 0 mm 和 4 0 mm 的，樣品高度應(yīng)控制在 1 5 ～2 0 m m，一般情況下應(yīng)當(dāng)偏低限。這就需要 操作者在取樣時(shí)注意原始樣品的高度。
另外 ，考慮利用機(jī)械夾持的方式進(jìn)行鑲嵌時(shí)，夾具的制作應(yīng)當(dāng)考慮高度的限制，不要為了多次使用的考慮將夾具制作的高度突破20 mm ，應(yīng)當(dāng)將夾具與樣品作為一個(gè)整體來(lái)考慮 。
2 管狀試樣內(nèi)壁邊緣組織的保護(hù)
內(nèi)表面經(jīng)化學(xué) 、物理沉積或其它表面化學(xué)熱處理后的管狀試樣 ，其內(nèi)表面如果不經(jīng)過(guò)適當(dāng)?shù)谋Ｗo(hù)，在磨光和拋光過(guò)程 中很容易形成圓角 ，影響邊緣組織的觀察 、記錄和分析。根據(jù)有關(guān)資料介紹，可在鑲嵌時(shí)在管狀的內(nèi)部加入少量加強(qiáng)型鑲嵌填料 ，或在管內(nèi)插入鋼圓柱，使鋼圓柱的直徑盡可能接近管內(nèi)徑，但是 ，鋼柱與試樣邊緣 間的空隙內(nèi)填料不密實(shí)，也容易出現(xiàn)圓角；同時(shí)，由于間隙內(nèi)可能存留侵蝕液，在樣品侵蝕后容易逸出造成侵蝕斑跡 ，影響樣品的質(zhì)量。若鋼圓柱直徑遠(yuǎn)小于管內(nèi)徑時(shí)，能被良好保護(hù)的表面范圍非常窄小。當(dāng)管狀試樣的內(nèi)孔在1 0mm 以?xún)?nèi)時(shí)，按圖 1 所示，放一個(gè)螺釘后再鑲嵌效果很好。
更多內(nèi)容請(qǐng)關(guān)注http://www.vishent.com/jxxwj/
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摘 要：介紹了一般金相樣品制備過(guò)程中樣品高度對(duì)制樣過(guò)程的影響，以及特殊的鑲嵌技巧；同時(shí)涉及了鑭鎳儲(chǔ)氫材料樣品制備的方法、技巧及效果，以及微差干涉技術(shù)在無(wú)鉛釬料研究中的實(shí)際應(yīng)用 。
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金相樣 品的制備在相當(dāng)程度上是一個(gè)經(jīng)驗(yàn)、技巧的過(guò)程；同時(shí)，由于新材料、新技術(shù)的應(yīng)用，對(duì)于金相檢驗(yàn)方法也提出了進(jìn)一步的要求。筆者在實(shí)際工作中對(duì)一些制樣的細(xì)節(jié)，以及在新材料、新技術(shù)的檢驗(yàn)和應(yīng)用上獲得了一些經(jīng)驗(yàn)和體會(huì)。
1 樣品高度的控制
試樣的幾何尺寸實(shí)際上制約著樣品在手工機(jī)械磨光和拋光過(guò)程中的平衡控制。如果在進(jìn)行磨光前的取樣和鑲嵌階段多留意一下樣品最終磨制時(shí)的高度以及高度與磨面最小徑向尺寸的關(guān)系，會(huì)有效地提高工作的效率和效果。
受預(yù)磨機(jī)磨光盤(pán)直徑的限制，金相樣品的磨面通常介于 1 5 0 ~4 0 0 mm 2 之間( <1 5 0 mm 2的試樣先鑲嵌，再磨制) 。一般情況下，磨面越大，試樣高度越低，穩(wěn)度越大，越有利于對(duì)試樣的平穩(wěn)控制。因此，對(duì)于不需要鑲嵌的樣品，在截取樣 品時(shí)注意磨面的最小徑向尺寸與樣品截取后高度之間的比例關(guān)系 ，盡可能的情況下降低高度。為方便握持，通常取試樣高度在 10 ~2 0 mm范圍內(nèi)。
需要鑲嵌的試樣,最終的試樣直徑規(guī)格為2 2 m m和 2 5 m m的，其高度應(yīng)控制在 12 ～1 5 mm直徑為 3 0 mm 和 4 0 mm 的，樣品高度應(yīng)控制在 1 5 ～2 0 m m，一般情況下應(yīng)當(dāng)偏低限。這就需要 操作者在取樣時(shí)注意原始樣品的高度。
另外 ，考慮利用機(jī)械夾持的方式進(jìn)行鑲嵌時(shí)，夾具的制作應(yīng)當(dāng)考慮高度的限制，不要為了多次使用的考慮將夾具制作的高度突破20 mm ，應(yīng)當(dāng)將夾具與樣品作為一個(gè)整體來(lái)考慮 。
2 管狀試樣內(nèi)壁邊緣組織的保護(hù)
內(nèi)表面經(jīng)化學(xué) 、物理沉積或其它表面化學(xué)熱處理后的管狀試樣 ，其內(nèi)表面如果不經(jīng)過(guò)適當(dāng)?shù)谋Ｗo(hù)，在磨光和拋光過(guò)程 中很容易形成圓角 ，影響邊緣組織的觀察 、記錄和分析。根據(jù)有關(guān)資料介紹，可在鑲嵌時(shí)在管狀的內(nèi)部加入少量加強(qiáng)型鑲嵌填料 ，或在管內(nèi)插入鋼圓柱，使鋼圓柱的直徑盡可能接近管內(nèi)徑，但是 ，鋼柱與試樣邊緣 間的空隙內(nèi)填料不密實(shí)，也容易出現(xiàn)圓角；同時(shí)，由于間隙內(nèi)可能存留侵蝕液，在樣品侵蝕后容易逸出造成侵蝕斑跡 ，影響樣品的質(zhì)量。若鋼圓柱直徑遠(yuǎn)小于管內(nèi)徑時(shí)，能被良好保護(hù)的表面范圍非常窄小。當(dāng)管狀試樣的內(nèi)孔在1 0mm 以?xún)?nèi)時(shí)，按圖 1 所示，放一個(gè)螺釘后再鑲嵌效果很好。
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