產(chǎn)品詳情
專業(yè)用在檢測半導體硅晶片、LCD基板、FPD電路板、太陽能電池片的顯微鏡
本款微分干涉顯微鏡55XA采用優(yōu)質(zhì)的無限遠光路系統(tǒng)，配置了DIC微分干涉裝置，落射照明裝置、透射照明裝置和偏光裝置，可用于微分干涉觀察和透反射觀察。微分干涉相襯觀察時圖像清晰，干涉色均勻，具有較強的浮雕感。主要用于檢測COG導電粒子，同時也可用于半導體硅晶片、LCD基板、FPD電路板、太陽能電池片的檢測。
微分干涉顯微鏡性能特點：
一、總放大倍數(shù)：50-800X ，采用當今最為先進的無限遠光路設(shè)計。
二、配置落射DIC觀察系統(tǒng)與透射照明系統(tǒng)。
三、微分干涉相襯觀察時圖像清晰，干涉色均勻，具有較強的浮雕感。
四、配置了無限遠長距平場消色差物鏡、大視野目鏡和偏光觀察裝置。視場清晰平坦。
五、三目鏡筒可自由切換目視觀察與顯微攝影，攝影時可100%通光，適合低照度顯微圖像拍攝。
六、上光源采用翻蓋式12V50W鹵素燈箱，下光源采用12V30W鹵素燈，內(nèi)置式可切換偏光觀察裝置，起偏器可360°旋轉(zhuǎn)。
微分干涉顯微鏡技術(shù)參數(shù)：
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序號 |
名稱 |
技術(shù)參數(shù) |
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1 |
目鏡 |
大視野 WF10X(Φ18mm) |
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2 |
無限遠長距平場消色差物鏡(無蓋玻片) |
PL L5X/0.12 工作距離：26.1 mm |
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PL L10X/0.25 工作距離：20.2 mm |
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PL L20X/0.40 工作距離：8.8 mm |
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PL L40X/0.60（彈簧） 工作距離：3.98 mm |
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PL L80X/0.80（彈簧） 工作距離：1.25 mm |
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3 |
DIC 觀察系統(tǒng) |
10XDIC推拉組 |
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20XDIC推拉組 |
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4 |
目鏡筒 |
三目鏡, 30˚傾斜,雙目鏡組 |
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5 |
落射照明系統(tǒng) |
12V 50W 鹵素燈,亮度與燈炮位置可調(diào) |
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內(nèi)置視場光欄、孔徑光欄、(黃、藍、綠、磨砂玻璃)濾色片轉(zhuǎn)換裝置，推拉式檢偏器與起偏器 |
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6 |
調(diào)焦機構(gòu) |
粗微動同軸調(diào)焦, 微動格值:2μm,帶鎖緊和限位裝置 |
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7 |
轉(zhuǎn)換器 |
五孔(內(nèi)向式滾珠內(nèi)定位) |
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8 |
載物臺 |
雙層機械移動式(尺寸:210mmX140mm,移動范圍:75mmX50mm) |
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9 |
透射照明系統(tǒng) |
阿貝聚光鏡 NA.1.25 可上下升降 |
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藍濾色片和磨砂玻璃 |
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集光器，鹵素燈照明適用(內(nèi)置視場光欄) |
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12V 30W 鹵素燈,亮度可調(diào) |
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序號 |
名稱 |
技術(shù)參數(shù) |
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1 |
①日本JVC攝像頭+圖像采集卡 |
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②數(shù)字攝像頭130萬、200萬、320萬、500萬像素 |
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③數(shù)碼相機+基本測量管理軟件 |
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2 |
①專業(yè)定量金相分析軟件UV-MA |
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②礦相分析軟件UV-K |
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③金相分析軟件UV-ME |
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④基本測量管理軟件UV |
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3 |
攝像頭接口：1X、0.5X |
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數(shù)碼相機接口：1X、2.5X/4X |
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4 |
平場目鏡 |
測微目鏡：0.1尺形、0.05尺形、0.5網(wǎng)形、0.2網(wǎng)形、0.1坐標形 |
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5 |
物鏡 |
平場消色差物鏡：4X、60X、80X |
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6 |
標尺 |
物鏡測微尺0.01mm |
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目鏡測微尺：0.1尺形、0.05尺形、0.5網(wǎng)形、0.2網(wǎng)形、0.1坐標形 |
