主營產(chǎn)品：真空鍍膜機
13802713274（總經(jīng)理）
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| 數(shù)量(鍍膜機) | 面議 |
| 1 |
| 詳細參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 鍍膜機 | 規(guī)格型號 | 完善 |
| 編號 | 齊全 | 計量單位 | 1鍍膜機 |
| 付款方式 | 面議 | 參考價格 | 0 |
| 價格單位 | 人民幣 | 供貨量 | 不限 |
| 說明書，報價手冊及驅(qū)動 | 暫無相關(guān)下載 | 其他資料下載 | 暫無相關(guān)下載 |
| 產(chǎn)地 | 本地 | 發(fā)貨地 | 鍍膜機 |
蒸騰鍍膜與濺射鍍膜的差異
蒸騰鍍膜和濺射鍍膜各有長處，大概依具商品和技術(shù)來決議運用哪種。
通常：蒸騰鍍膜速率快，重復性相對較差，薄膜的附著力相對較低，資料使用率高
濺射鍍膜成膜速率相對慢，重復性好。薄膜的附著力大，資料使用率相對低
中頻磁控濺射的基本原理：使用磁場與電子交互效果，使電子在靶外表進行螺旋狀運轉(zhuǎn)，然后增大電子碰擊氬氣發(fā)生離子的概率，所發(fā)生的離子在電場效果下碰擊靶面，然后濺射出靶材。
選用中頻濺射的長處是可得到潤滑細密，膜層硬度高，膜厚可線性增加，不中毒，溫升平緩,但設備的需求較高,作業(yè)壓強範圍很窄,各種操控需求疾速精準.
多弧濺射在靶材上施小電壓大電流使資料離子化（帶正電顆粒），然后高速擊向基片(負電)并堆積，構(gòu)成細密膜堅固膜。首要用于耐磨耐蝕膜。其缺陷是正負電撞形成膜層不均勻，空穴、燒蝕。
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