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阿斯麥光刻機AC-043190-S
阿斯麥光刻機AC-043190-S
阿斯麥光刻機AC-043190-S作為阿斯麥的一款重要光刻機型號,具備卓越的性能和先進的技術(shù)參數(shù),為芯片制造提供了可靠的解決方案。以下是該設(shè)備的詳細參數(shù)介紹?;緟?shù)型號: AC-043190-S類型: 極紫外(EUV)光刻機制造商: 阿斯麥(ASML)發(fā)布日期: 2021年技術(shù)規(guī)格光源波長: 13.5納米(nm)數(shù)值孔徑(NA): 0.33分辨率: 支持7納米及以下工藝節(jié)點套刻精度: ≤2.5納米(nm)生產(chǎn)效率: 高達125片晶圓/小時曝光方式: 單次曝光光學(xué)系統(tǒng)鏡頭類型: 反射式光學(xué)系統(tǒng)鏡片材料: 多層層疊鉬硅(Mo/Si)鏡片光源功率: 250瓦照明模式: 支持多種照明模式,包括四極照明、環(huán)形照明等機械系統(tǒng)工件臺: 高精度六自由度工件臺掩模臺: 高精度六自由度掩模臺運動精度: ≤1納米(nm)振動控制: 采用先進的隔振技術(shù),確保設(shè)備穩(wěn)定運行控制系統(tǒng)操作系統(tǒng): 基于Linux的ASML控制軟件自動化程度: 高度自動化,支持遠程監(jiān)控和控制數(shù)據(jù)處理能力: 強大的數(shù)據(jù)處理能力,確保高效運行和精確控制環(huán)境要求溫度控制: 20°C ± 0.1°C濕度控制: 40% ± 5% RH潔凈度要求: 達到ISO Class 1標(biāo)準(zhǔn)尺寸與重量設(shè)備尺寸: 約10米(長)× 6米(寬)× 4米(高)重量: 約180噸電源要求電壓: 380-415伏特(V)頻率: 50/60赫茲(Hz)功耗: 約1兆瓦(MW)其他特性兼容性: 兼容多種晶圓尺寸,包括300毫米(mm)維護性: 模塊化設(shè)計,便于維護和升級安全性: 符合國際安全標(biāo)準(zhǔn),配備多重安全保護措施阿斯麥光刻機AC-043190-S憑借其先進的技術(shù)參數(shù)和卓越的性能,為半導(dǎo)體制造商提供了高效、精確的光刻解決方案,助力芯片制造工藝的不斷進步。無論是生產(chǎn)速度、分辨率還是套刻精度,AC-043190-S都展示了阿斯麥在光刻技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。




