產(chǎn)品詳情
光刻的本質是把臨時電路結構復制到以后要進行刻蝕和離子注入的硅片上。哈默納科光刻工藝諧波SHG-25-120-2UJ這些結構首先以圖形形式制作在稱為掩模版的石英膜版上,然后用紫外光透過掩模版把圖形轉移到硅片表面的光敏薄膜上哈默納科光刻工藝諧波SHG-25-120-2UJ。芯片大批量生產(chǎn)工藝中的光刻以紫外光刻為主。掩模板制作也使用光刻工藝,但是,通常使用電子束、離子束進行曝光。圖形轉移中的光刻曝光技術在本書第4章將做詳細介紹。
光刻顯影后圖形出現(xiàn)在硅片上,然后用一種化學刻蝕工藝把薄膜圖形成像在哈默納科光刻工藝諧波SHG-25-120-2UJ下面的硅片上,或者被送到離子注入工作區(qū)來完成硅片上圖形區(qū)中可選擇的摻雜



