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芯片摻雜用高低溫一體機

數(shù)量(臺) 價格
100 24000.00元/臺
  • 最小起訂: 1臺
  • 發(fā)貨地址: 四川 成都市
  • 發(fā)布日期:2025-12-25
  • 訪問量:25
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邁浦特機械(四川)有限公司

實名認證 企業(yè)認證
  • 企業(yè)地址:中國(四川)自由貿易試驗區(qū)成都高新區(qū)天府大道北段1700號N3區(qū)21樓2125邁浦特機械
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詳細參數(shù)
品牌邁浦特型號MPTD
工作原理定制類型定制
冷卻方式定制結構型式定制
熱水溫度定制運行電耗定制
冷卻水溫度定制適用領域化工醫(yī)藥注塑電子信息制造業(yè)壓鑄
加工定制結構類型密封式
標準制冷量定制外形尺寸定制
管徑定制風扇定制
功率定制電流定制
重量定制產地定制

產品詳情

郵:zhaoyuanyuan@maipt.ltd
支持非標定制,免費提供技術規(guī)格書、方案。
聯(lián)系:①⑧①零⑧①②⑨零⑧②

芯片摻雜用高低溫一體機(MPTD 系列)產品簡介

一、產品定位與核心用途

專為半導體芯片摻雜工藝(如離子注入后退火摻雜、熱擴散摻雜、外延層摻雜)全流程溫控需求研發(fā)設計,屬于邁浦特 MPTD 系列 - 45℃~300℃高低溫一體機范疇,核心用于解決摻雜過程中溫度波動導致的摻雜濃度不均、結深偏差、載流子遷移率下降及芯片性能離散等問題。通過硅油循環(huán)構建 - 45℃~300℃寬域可控溫度環(huán)境,適配摻雜預處理、恒溫摻雜、梯度退火、降溫穩(wěn)定等關鍵場景,為提升芯片摻雜合格率(目標≥99.8%)、優(yōu)化電性能參數(shù)、保障工藝重復性提供核心溫控支撐。
適配半導體晶圓制造廠、芯片研發(fā)機構、半導體材料企業(yè)等場景,可在 0-40℃環(huán)境溫度、50%-80% 相對濕度、±4℃/h 溫差工況下每周 7 天、每天 24 小時連續(xù)運行,契合半導體行業(yè)對 “超高精度溫控、高潔凈性、強抗干擾” 的嚴苛要求,同時滿足 SEMI(半導體設備與材料國際協(xié)會)相關標準,保障芯片摻雜工藝合規(guī)、高效開展。

二、核心性能特點

1. 精準控溫適配,覆蓋全摻雜流程

控溫范圍覆蓋 - 45℃~300℃,溫控精度達 PID±0.1℃,采用邁浦特 PLC 控溫系統(tǒng)(內置 9 組獨立 PID 溫區(qū)段控制邏輯),搭配 PT100 鉑電阻測溫體(臺灣銘揚,測溫響應≤0.1 秒,誤差≤±0.05℃),可精準匹配芯片不同摻雜工藝的溫度需求:
  • 摻雜預處理:-45℃~0℃±0.1℃(晶圓低溫清潔預處理,去除表面水汽與雜質,避免影響摻雜均勻性);
  • 熱擴散摻雜:150℃~300℃±0.1℃(促進摻雜原子擴散形成穩(wěn)定結區(qū),如硅片硼、磷擴散摻雜);
  • 離子注入后退火:80℃~200℃±0.1℃(修復離子注入造成的晶格損傷,激活摻雜原子,如 CMOS 芯片源漏區(qū)摻雜);
  • 梯度退火摻雜:50℃~250℃±0.1℃(0.2℃/min~1℃/min 可調斜率)(優(yōu)化摻雜原子分布,減少熱應力,如功率芯片摻雜);
  • 降溫穩(wěn)定:20℃~80℃±0.1℃(摻雜后緩慢降溫,穩(wěn)定晶格結構,避免結區(qū)偏移)。
系統(tǒng)支持進出口溫度相互切換、物料溫度與本機溫度雙向切換,加熱冷卻雙 PID 協(xié)同控制,能快速響應摻雜負荷突變、晶圓批次更換帶來的熱負荷沖擊,確保溫控區(qū)域(摻雜爐、晶圓承載臺)溫度波動≤±0.5℃,避免因溫度偏差導致芯片電性能偏差(如擊穿電壓波動、漏電流超標)。
支持 100 組可編工藝程序,每組含 100 條步驟,可預設 “預處理→恒溫摻雜→梯度退火→降溫穩(wěn)定” 全流程溫控曲線(如 “-20℃恒溫 1h(晶圓預處理)→180℃升溫(0.6℃/min,摻雜準備)→180℃恒溫 3h(熱擴散摻雜)→100℃降溫(0.4℃/min,退火修復)→25℃降溫(0.3℃/min,穩(wěn)定收尾)”),一鍵調用自動執(zhí)行,減少人工操作誤差。配備 7 寸邁浦特定制觸摸顯示屏,實時顯示設定溫度、實際溫度及動態(tài)溫度曲線;支持 USB 數(shù)據導出功能,可按 1 分鐘~24 小時周期導出 24 個月內的溫度數(shù)據與告警記錄,滿足半導體行業(yè)工藝追溯需求;通訊方式標配 Modbus RS485,可與芯片生產線 MES 系統(tǒng)、PLC 控制系統(tǒng)聯(lián)動,實現(xiàn)溫控參數(shù)與工藝數(shù)據(摻雜濃度、結深、晶圓良率)同步采集。

2. 高效潔凈循環(huán),保障工藝穩(wěn)定性

  • 高效循環(huán)控溫設計:采用直接加熱(直接冷卻)方式,加熱功率 5.5~25kW 可按需適配(實驗室研發(fā)選 5.5~10kW,量產生產線選 15~25kW)。加熱管選用 SUS316L 不銹鋼材質,法蘭型連接搭配陶瓷絕熱設計,耐半導體工藝環(huán)境中輕微腐蝕性氣體、粉塵影響,熱效率達 95% 以上,減少熱量損耗;全密閉管道式設計結合高效板式熱交換器,降低硅油需求量的同時提升熱量利用率,快速響應溫度調節(jié)需求,縮短工藝準備時間(如從常溫升至 180℃僅需 30 分鐘,降至 - 20℃僅需 40 分鐘)。
配備邁浦特定制磁力油泵(耐溫 - 110℃~350℃,軸承日本 NSK 軸封),揚程 28~100M、流量 6.5~250m3/h,確保硅油在摻雜爐換熱夾層、晶圓承載臺流道內均勻流動,使晶圓表面溫度偏差≤±0.3℃,避免局部溫差異致?lián)诫s不均(如同一晶圓不同區(qū)域摻雜濃度偏差超 5%)。主管路系統(tǒng)為不銹鋼材質,經無縫氬弧焊接工藝處理,內壁光滑無殘留,符合半導體潔凈要求(可耐受高純氮氣吹掃、異丙醇清潔);搭配高溫 Y 型過濾器(邁浦特定制,過濾精度≥5μm),過濾硅油中雜質,防止污染晶圓或堵塞微小流道;硅油選用高純度、低揮發(fā)型號(揮發(fā)量≤0.1%/100h@150℃),無顆粒釋放、無有害物質揮發(fā),與半導體材料(硅、氮化鎵、碳化硅)無兼容性風險,無需頻繁更換,降低生產中斷頻率。
  • 低干擾設計:設備運行噪音≤70dB、振動≤0.2mm/s,不會干擾半導體車間精密檢測儀器(如探針臺、光刻機)運行;膨脹箱內硅油不參與循環(huán),溫度維持在常溫~60℃,減少氧化與揮發(fā),避免揮發(fā)物附著在晶圓表面影響工藝;整機采用電磁屏蔽處理,適配半導體車間強電磁環(huán)境,防止干擾摻雜設備的射頻、激光信號傳輸。

3. 多重安全保護,規(guī)避高價值工藝風險

具備 10 重全面安全保護裝置,針對芯片摻雜 “高設備價值、高工藝成本” 特性定制安全邏輯:
  • 溫度與介質保護:循環(huán)硅油超摻雜安全溫度上限(如 320℃,防止晶圓碳化、晶格損傷)或低于下限(如 - 45℃,避免管路凍裂)時,自動切斷電源并聲光報警,同時聯(lián)動摻雜設備停止運行;液位開關實時監(jiān)測油位,缺油時立即停機,避免油泵空轉損壞,防止溫控中斷導致高價晶圓報廢。
  • 動力與壓力保護:瑞士 CARLO DPA51CM44 逆相保護器檢測電源相位,防止泵浦反轉;德國西門子 3RU6116 熱繼電器保護泵浦與壓縮機超載,報警提示;系統(tǒng)壓力異常(高壓≥2.8MPa、低壓≤0.2MPa)時,自動停止加熱并啟動 BY-PASS 泄壓回路,避免管路爆裂引發(fā)安全事故;管路阻塞時,泄壓回路保護泵浦,保障循環(huán)系統(tǒng)穩(wěn)定,避免摻雜中途中斷。
  • 應急與操作保護:配備雙重緊急停止按鈕(本地 + 遠程),設備異常(如溫度驟升、泄漏)時可快速切斷運行,適配無人值守的長周期摻雜場景;短路(超溫)保護采用韓國 LS 空氣開關,快速切斷故障電路,避免引發(fā)電氣火花,契合半導體車間防爆要求;支持手動 / 自動排氣功能,快速排出系統(tǒng)內空氣,確保溫控精度,預防氣阻致局部溫度偏差。

4. 定制化適配,貼合半導體生產場景

  • 接口與布局定制:熱媒體進 / 出口管徑可根據摻雜爐、晶圓承載臺接口規(guī)格定制,支持 DN10~DN50 多種尺寸,無需改造現(xiàn)有生產設備,降低安裝成本;可根據半導體潔凈車間空間(如緊湊研發(fā)實驗室、大型晶圓生產線)定制機架尺寸,底部加裝抗震靜音萬向輪(帶剎車),便于設備移動與定位,減少空間占用;針對多晶圓并行摻雜,可定制多出口管路與多點溫控功能,分別控制不同摻雜工位溫度,提升生產效率。
  • 功能擴展定制:針對高精度芯片摻雜(如先進制程 7nm 以下),可選購 ±0.05℃超高精度控溫模塊,進一步提升溫控穩(wěn)定性;針對遠程運維需求,可選配 PROFINET、PROFIBUS 以太網通訊功能,實現(xiàn)與半導體生產監(jiān)控中心聯(lián)動,遠程查看溫控數(shù)據、調整工藝參數(shù),適配多車間協(xié)同生產;針對數(shù)據完整性需求,可擴展審計追蹤功能,記錄每批次摻雜的操作人員、參數(shù)修改、告警信息,滿足半導體行業(yè)合規(guī)要求;針對寬禁帶半導體(如氮化鎵)摻雜,可定制耐高溫管路與強化換熱模塊,提升高溫工況下的穩(wěn)定性。

三、關鍵技術參數(shù)(典型機型)

參數(shù)類別 具體參數(shù)
電源規(guī)格 3N-380V-50Hz(允許電壓波動 ±10%,相間電壓差 ±2%)
總電功率 9.5~37kW(380V 3N)
熱媒體 高純度低揮發(fā)硅油(耐 - 45℃~300℃,揮發(fā)量≤0.1%/100h@150℃,與半導體材料兼容)
控溫范圍 -45℃~300℃(核心摻雜區(qū)間 - 45℃~250℃)
控溫精度 PID±0.1℃(可選 ±0.05℃超高精度)
控溫方式 邁浦特 PLC 系統(tǒng),9 組獨立 PID 分段控溫,加熱冷卻雙 PID 控制,溫度切換功能
加熱功率 5.5~25kW(可選購,適配不同晶圓尺寸)
制冷量 -40℃:0.9~4.7kW;-20℃:2.9~16kW;80℃/180℃/250℃:5.5~25kW(可選購)
循環(huán)泵 邁浦特定制磁力油泵,耐溫 - 110℃~350℃,日本 NSK 軸封(揚程 28~100M,流量 6.5~250m3/h)
主管路材質 不銹鋼(SUS316L),無縫氬弧焊接工藝,內壁拋光處理
節(jié)流方式 電子膨脹閥或毛細管
壓縮機 美國谷輪 / 卡萊爾全封閉渦旋式壓縮機(運行穩(wěn)定,噪音≤65dB)
安全保護 溫度異常、電源逆相、泵浦超載、缺油、壓力異常、管路阻塞等 10 重保護
數(shù)據功能 7 寸觸摸顯示屏(實時溫度 + 曲線),USB 導出 24 個月數(shù)據,Modbus RS485 通訊
工作環(huán)境 溫度 0-40℃,相對濕度 50%-80%,無強腐蝕性氣體、低粉塵(符合半導體潔凈要求)

四、安裝與環(huán)境適配要求

1. 安裝規(guī)范

  • 電源配置:需使用三相 380V 50Hz + 地線,建議采用 3xmm2+1xmm2 銅芯電纜線(由需方自備),電纜規(guī)格根據設備總功率匹配(如 9.5kW 機型選 3x4mm2+1x2.5mm2),確保電源輸出穩(wěn)定,避免電壓波動影響溫控精度;做好接地處理(接地電阻≤4Ω),防止電磁干擾影響 MES 系統(tǒng)、摻雜設備的信號傳輸。
  • 管路連接:熱媒體出入口建議采用不銹鋼硬管連接,需跨越潔凈區(qū)域時可配備耐高溫不銹鋼軟管(長度≤3 米,由需方自備)并加裝保溫管(厚度≥20mm),減少熱損耗;水冷機型需接入高純冷卻水(溫度≤20℃,壓力 0.15-0.3MPa),冷卻水需為高純水(電導率≤5μS/cm),防止換熱器結垢影響換熱效率,避免水垢雜質污染循環(huán)系統(tǒng)或晶圓。
  • 調試條件:在硅油、電供應正常且與摻雜設備連接完成后調試,先空載試運行 24 小時,驗證控溫精度、循環(huán)穩(wěn)定性及安全保護功能正常;再帶載調試(用標準硅片模擬熱負荷),確保溫控區(qū)域溫場均勻性達標(各點溫差≤±0.3℃)、摻雜關鍵參數(shù)(結深、摻雜濃度)符合要求后,方可投入正式生產。

2. 環(huán)境適配

設備機架采用 2mm 厚碳鋼噴塑處理,防腐蝕、易清潔,可耐受半導體潔凈車間常規(guī)清潔(如高純氮氣吹掃、中性清潔劑擦拭);運行適配 0-40℃的常規(guī)潔凈車間溫度范圍,無需額外恒溫改造,降低車間建設成本;設備整體設計緊湊,可靈活擺放于摻雜設備旁、車間角落或專用機房,不占用晶圓轉運、檢測的核心空間,契合半導體車間 “高密度、高效率、高潔凈” 的布局需求。

芯片摻雜用高低溫一體機(MPTD 系列)產品技術規(guī)格書示例



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