1.紫外吸收光譜：

　　縮寫：UV;

　　分析原理：吸收紫外光能量，引起分子中電子能級(jí)的躍遷;

　　譜圖的表示方法：相對(duì)吸收光能量隨吸收光波長(zhǎng)的變化;

　　提供的信息：吸收峰的位置、強(qiáng)度和形狀，提供分子中不同電子結(jié)構(gòu)的信息。

　　2.熒光光譜法：

　　縮寫：FS;

　　分析原理：被電磁輻射激發(fā)后，從最低單線激發(fā)態(tài)回到單線基態(tài)，發(fā)射熒光;

　　譜圖的表示方法：發(fā)射的熒光能量隨光波長(zhǎng)的變化;

　　提供的信息：熒光效率和壽命，提供分子中不同電子結(jié)構(gòu)的信息。

　　3.紅外吸收光譜法：

　　縮寫：IR;

　　分析原理：吸收紅外光能量，引起具有偶極矩變化的分子的振動(dòng)、轉(zhuǎn)動(dòng)能級(jí)躍遷;

　　譜圖的表示方法：相對(duì)透射光能量隨透射光頻率變化;

　　提供的信息：峰的位置、強(qiáng)度和形狀，提供功能團(tuán)或化學(xué)鍵的特征振動(dòng)頻率。

　　3.拉曼光譜法：

　　縮寫：Ram;

　　分析原理：吸收光能后，引起具有極化率變化的分子振動(dòng)，產(chǎn)生拉曼散射;

　　譜圖的表示方法：散射光能量隨拉曼位移的變化;

　　提供的信息：峰的位置、強(qiáng)度和形狀，提供功能團(tuán)或化學(xué)鍵的特征振動(dòng)頻率。

　　4.核磁共振波譜法：

　　縮寫：NMR;

　　分析原理：在外磁場(chǎng)中，具有核磁矩的原子核，吸收射頻能量，產(chǎn)生核自旋能級(jí)的躍遷;

　　譜圖的表示方法：吸收光能量隨化學(xué)位移的變化;

　　提供的信息：峰的化學(xué)位移、強(qiáng)度、裂分?jǐn)?shù)和偶合常數(shù)，提供核的數(shù)目、所處化學(xué)環(huán)境和幾何構(gòu)型的信息。

　　5.電子順磁共振波譜法：

　　縮寫：ESR;

　　分析原理：在外磁場(chǎng)中，分子中未成對(duì)電子吸收射頻能量，產(chǎn)生電子自旋能級(jí)躍遷;

　　譜圖的表示方法：吸收光能量或微分能量隨磁場(chǎng)強(qiáng)度變化;

　　提供的信息：譜線位置、強(qiáng)度、裂分?jǐn)?shù)目和超精細(xì)分裂常數(shù)，提供未成對(duì)電子密度、分子鍵特性及幾何構(gòu)型信息。

　　6.質(zhì)譜分析法：

　　縮寫：MS;

　　分析原理：分子在真空中被電子轟擊，形成離子，通過(guò)電磁場(chǎng)按不同m/e分離;

　　譜圖的表示方法：以棒圖形式表示離子的相對(duì)峰度隨m/e的變化;

　　提供的信息：分子離子及碎片離子的質(zhì)量數(shù)及其相對(duì)峰度，提供分子量，元素組成及結(jié)構(gòu)的信息。

　　7.氣相色譜法：

　　縮寫：GC;

　　分析原理：樣品中各組分在流動(dòng)相和固定相之間，由于分配系數(shù)不同而分離;

　　譜圖的表示方法：柱后流出物濃度隨保留值的變化;

　　提供的信息：峰的保留值與組分熱力學(xué)參數(shù)有關(guān)，是定性依據(jù);峰面積與組分含量有關(guān)。

　　8.反氣相色譜法：

　　縮寫：IGC;

　　分析原理：探針?lè)肿颖Ａ糁档淖兓Q于它和作為固定相的聚合物樣品之間的相互作用力;

　　譜圖的表示方法：探針?lè)肿颖缺Ａ趔w積的對(duì)數(shù)值隨柱溫倒數(shù)的變化曲線;

　　提供的信息：探針?lè)肿颖Ａ糁蹬c溫度的關(guān)系提供聚合物的熱力學(xué)參數(shù)。

　　9.裂解氣相色譜法：

　　縮寫：PGC;

　　分析原理：高分子材料在一定條件下瞬間裂解，可獲得具有一定特征的碎片;

　　譜圖的表示方法：柱后流出物濃度隨保留值的變化;

　　提供的信息：譜圖的指紋性或特征碎片峰，表征聚合物的化學(xué)結(jié)構(gòu)和幾何構(gòu)型。

　　10.凝膠色譜法：

　　縮寫：GPC;

　　分析原理：樣品通過(guò)凝膠柱時(shí)，按分子的流體力學(xué)體積不同進(jìn)行分離，大分子先流出;

　　譜圖的表示方法：柱后流出物濃度隨保留值的變化;

　　提供的信息：高聚物的平均分子量及其分布。

　　11.熱重法：

　　縮寫：TG;

　　分析原理：在控溫環(huán)境中，樣品重量隨溫度或時(shí)間變化;

　　譜圖的表示方法：樣品的重量分?jǐn)?shù)隨溫度或時(shí)間的變化曲線;

　　提供的信息：曲線陡降處為樣品失重區(qū)，平臺(tái)區(qū)為樣品的熱穩(wěn)定區(qū)。

　　12.熱差分析：

　　縮寫：DTA;

　　分析原理：樣品與參比物處于同一控溫環(huán)境中，由于二者導(dǎo)熱系數(shù)不同產(chǎn)生溫差，記錄溫度隨環(huán)境溫度或時(shí)間的變化;

　　譜圖的表示方法：溫差隨環(huán)境溫度或時(shí)間的變化曲線;

　　提供的信息：提供聚合物熱轉(zhuǎn)變溫度及各種熱效應(yīng)的信息。

　　13.示差掃描量熱分析：

　　縮寫：DSC;

　　分析原理：樣品與參比物處于同一控溫環(huán)境中，記錄維持溫差為零時(shí)，所需能量隨環(huán)境溫度或時(shí)間的變化;

　　譜圖的表示方法：熱量或其變化率隨環(huán)境溫度或時(shí)間的變化曲線;

　　提供的信息：提供聚合物熱轉(zhuǎn)變溫度及各種熱效應(yīng)的信息

　　14.靜態(tài)熱-力分析：

　　縮寫：TMA;

　　分析原理：樣品在恒力作用下產(chǎn)生的形變隨溫度或時(shí)間變化;

　　譜圖的表示方法：樣品形變值隨溫度或時(shí)間變化曲線;

　　提供的信息：熱轉(zhuǎn)變溫度和力學(xué)狀態(tài)。

　　15.動(dòng)態(tài)熱-力分析：

　　縮寫：DMA;

　　分析原理：樣品在周期性變化的外力作用下產(chǎn)生的形變隨溫度的變化;

　　譜圖的表示方法：模量或tgδ隨溫度變化曲線;

　　提供的信息：熱轉(zhuǎn)變溫度模量和tgδ。

　　16.透射電子顯微術(shù)：

　　縮寫：TEM;

　　分析原理：高能電子束穿透試樣時(shí)發(fā)生散射、吸收、干涉和衍射，使得在相平面形成襯度，顯示出圖象;

　　譜圖的表示方法：質(zhì)厚襯度象、明場(chǎng)衍襯象、暗場(chǎng)衍襯象、晶格條紋象和分子象;

　　提供的信息：晶體形貌、分子量分布、微孔尺寸分布、多相結(jié)構(gòu)和晶格與缺陷等。

　　17.掃描電子顯微術(shù)：

　　縮寫：SEM;

　　分析原理：用電子技術(shù)檢測(cè)高能電子束與樣品作用時(shí)產(chǎn)生二次電子、背散射電子、吸收電子、X射線等并放大成象;

　　譜圖的表示方法：背散射象、二次電子象、吸收電流象、元素的線分布和面分布等;

　　提供的信息：斷口形貌、表面顯微結(jié)構(gòu)、薄膜內(nèi)部的顯微結(jié)構(gòu)、微區(qū)元素分析與定量元素分析等。