產(chǎn)品詳情
生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復(fù)合鍍膜機(jī)（PVD-1000B系列）該設(shè)備采用磁控濺射、離子輔助、反應(yīng)濺射的工藝方法，在工件表面制備各種薄膜材料。該設(shè)備是集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控濺射、離子輔助鍍膜及反應(yīng)濺射鍍膜等工藝方法于一體的PVD設(shè)備。
可以制備單層膜、多層膜、摻雜膜、金屬膜及合金膜、化合物薄膜等。
設(shè)備結(jié)構(gòu)及性能參數(shù)
真空室為圓柱形、上開蓋、前開門結(jié)構(gòu)；使用材料均為奧氏體不銹鋼304/321，表面電化學(xué)拋光處理，無微觀毛刺，不會(huì)藏污納垢。
磁控濺射靶為矩形，沿真空室壁的圓周排列，可調(diào)整靶面與工件的距離。
樣品架為圓筒形，樣品裝載數(shù)量大；旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)為齒輪驅(qū)動(dòng)式，動(dòng)力直連輸入，經(jīng)齒輪驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，運(yùn)行平穩(wěn)，無抖動(dòng)；密封可靠，故障率低。
加熱系統(tǒng)采用紅外加熱器，對真空環(huán)境無污染，加熱均勻；采用具有PID功能的智能溫控儀控制加熱功率。
電氣控制及操作系統(tǒng)工作穩(wěn)定可靠，操作界面清晰大方，便于操作。
系統(tǒng)安全保護(hù)設(shè)置齊全，設(shè)備啟動(dòng)后可實(shí)行無人運(yùn)行。
設(shè)備重點(diǎn)性能參數(shù)
| 極限真空度 | 8X10^-5Pa |
| 工作背景真空度 | 8X10^-4Pa |
| 工作背景真空到達(dá)時(shí)間 | ＜40min（空氣濕度低于45％；開門時(shí)間＜30min條件下從大氣抽到工作真空度時(shí)間) |
| 樣品加熱溫度 | 室溫~300℃ |
| 樣品架公轉(zhuǎn)速度 | 3~10r/min連續(xù)可調(diào) |
| 片內(nèi)膜層均勻性 | ＜5% |
| 片間膜層均勻性 | ＜5% |
| 磁控靶數(shù)量 | 3靶（可根據(jù)用戶工藝擴(kuò)展靶位） |
| 真空清洗離子靶 | 1靶 |
