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Archer AIM高級(jí)套刻精度（Overlay）光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)能為65nm及以下光刻提供工藝控制。該系統(tǒng)應(yīng)用了一種新的grating-style技術(shù),大大降低了亞100nm設(shè)計(jì)規(guī)則時(shí)傳統(tǒng)方法測(cè)量帶來的不確定性。該系統(tǒng)提供的數(shù)據(jù)能更精確地反映器件的Overlay性能,因此,可以實(shí)現(xiàn)更嚴(yán)格的Overlay控制,改善分步重復(fù)曝光機(jī)的套刻精確度。
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