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XLA100 ArF光源是性能卓越的高級光刻的工作光源,擁有三個深紫外(DUV)波長。作為世界上第一個雙腔光源,XLA100與主控振蕩器功率放大器整合在一起,雙腔技術(shù)造就了行業(yè)內(nèi)功率最大,帶寬最窄的光源,并且也具有193納米光刻的量產(chǎn)優(yōu)勢。通過將電源與帶寬發(fā)生器相分離,克服了由于成本方面的考慮而帶來的局限性,這種局限性限制了新光源的設(shè)計。主控振蕩器功率放大器驅(qū)動的XLA100使芯片生產(chǎn)商能達到更高的產(chǎn)量,更小的臨界尺寸,這些都是下一代DUV光刻所需要的。在這種獨特的雙腔設(shè)計下,XLA100和其他的未來光源將能夠在高功率下達到非常嚴格的帶寬性能,與現(xiàn)在的單腔結(jié)構(gòu)相比能顯著的降低成本。
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