時(shí)間:12月21日上午10:00
地點(diǎn):物理樓a棟219
題目:基于電子束曝光濕法剝離工藝的無粘附層金屬微納結(jié)構(gòu)加工
主講人:鄭夢(mèng)潔
主講人簡(jiǎn)介:鄭夢(mèng)潔,物理與微電子科學(xué)學(xué)院2016級(jí)博士研究生,國(guó)內(nèi)導(dǎo)師機(jī)械與運(yùn)載工程學(xué)院段輝高教授,于2017年11月至2018年12月在美國(guó)麻省理工學(xué)院電子工程系quantum nanostructures and nanofabrication課題組進(jìn)行為期一年的聯(lián)合培養(yǎng),國(guó)外導(dǎo)師karl k. berggren教授。已發(fā)表sci一作及共同一作論文兩篇,共同作者13篇。在國(guó)外聯(lián)合培養(yǎng)期間,主導(dǎo)課題四項(xiàng),參與課題一項(xiàng),參與撰寫論文一篇在投。
內(nèi)容提要:金屬粘附層運(yùn)用于傳統(tǒng)金屬納米結(jié)構(gòu)加工剝離工藝中,并廣泛應(yīng)用于表面等離激元、納米光子及納米電子學(xué)器件制作。然而,粘附層雖提供了較為穩(wěn)定的力學(xué)支撐,但其帶來的近場(chǎng)增強(qiáng)的損耗及減小等離激元弛豫時(shí)間限制其在納米光學(xué)器件中的應(yīng)用。此外,鈦鉻粘附層對(duì)器件電學(xué)性質(zhì)如導(dǎo)電性的影響大于其自身結(jié)構(gòu)的影響。并且,可能存在的氧化現(xiàn)象對(duì)納米電子器件的正常使用造成阻礙。本研究對(duì)無粘附層制作金屬納米結(jié)構(gòu)結(jié)果進(jìn)行統(tǒng)計(jì),并對(duì)其存在的問題進(jìn)行分析解釋,以期為無粘附層制作部分納米光電器件提供指導(dǎo)性建議。本次講座將分享留美期間學(xué)習(xí)、工作以及生活點(diǎn)滴。










